压力烤箱

随着封装密度的提升,在underfill (UF) 和die attach film (DAF)中的气泡对封装产品的性能和可靠性产生的愈来愈严重的影响。 可控高压高温工艺可以有效去除UF和DAF中的气泡。 调整温度改变材料的流动性,同时配合真空去除大体积的泡。 再根据材料的特性,施加高压和提高固化温度将细小的气泡溶解在胶体内部并且固化,达到去除气泡的目的

  • 技术指标
  • 应用领域

压力烤箱技术指标:

根据客户的需求,可以定制不同压力和温度的反应腔体,最高压力可以到15kgf,温度可达250℃。


Pressure oven在固化及气泡去除方面有很多用途,主要在以下四个方面:


1. Underfill的气泡去除及固化




2.Flash memory stack




3. LED Encap




4. Film Lamination 

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